您好!欢迎来到艾普斯电子科技(济南)有限公司官网!
资讯信息 NEWS CENTER
联系我们

艾普斯电子科技(济南)有限公司

地址:山东省济南市高新区环保科技园E栋南座6层

联系人:

电话:400-1617-312

邮箱:mt@aplasma.cn

等离子体表面处理设备作用原理

日期:2019-12-14   浏览量:1798

等离子体表面处理设备提供了非常多的表面改性方法。对脏污组件进行精细清洗、对塑料件进行等离子活化、对 PTFE、硅进行蚀刻,以及对具有 PTFE 类涂层的塑料件进行涂覆,这些是其部分应用用途。就此而言,低压等离子体可应用于各种不同的领域,在这些领域中对材料进行键合或者有针对性地改变表面特性对其来说非常重要。



材料清洗:等离子体技术可为所有类型的污染物、所有基材和所有后续处理提供解决方案。此外,还能分解由分子构成的残留污染物。
材料活化:表面具有良好的润湿性,是确保在 涂漆、粘接、印刷 或者 键合 时与结合配偶体 粘附 的前提条件。
材料蚀刻:等离子体技术可用于各向异性和各向同性蚀刻。通过化学蚀刻进行各向同性蚀刻,通过物理蚀刻进行各向异性蚀刻。
材料涂覆:使用低压等离子体,可以改良具有不同涂层的工件。为此,会将气态和液态原材料输送到真空腔室中。