1、机台整机规格：  VP120L,1320(W)×1720(H)×1030(D)mm
                               VP180L,1400(W)×1720(H)×1050(D)mm
                               VP216L,1450(W)×1720(H)×1150(D)mm
2、电极板规格：      VP120L,10层平板电极（470(W)×410(D)mm）可定制
                               VP180L,14层平板电极（530(L)×400(W)mm）可定制
                               VP216L,10层平板电极（560(W)×500(D)mm）可定制
3、控制系统：         触摸屏+PLC控制
4、真空测定系统：  皮拉尼真空计
5、气体计量系统：  MFC
6、气体路数：         2-5路进气、1路放空
7、等离子发生器：  1-5KW等离子体发生源，40KHz（可选13.56MHz）
8、工作气体：         2-5路工作气体可选：Ar2、N2、H2、CF4、O2

特 点：高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持

 等离子表面处理原理： 清洗、 活化、 蚀刻、 涂覆。

真空等离子设备结构及工作原理， 常用工艺参数。

应 用：适用于印制线路板行业，半导体IC领域，塑胶高分子材料领域，汽车电子行业，航空工业等。
          1、印制线路板行业：高频板、多层板、软板、软硬结合板表面活化、清洁；软板补强前活化；
          2、半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；
          3、塑胶高分子材料领域：硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。