1、机台整机规格：  VP16H，1820(W)×1100(D)×1860(H)mm
2、电极板规格：     VP16H，16层垂直式电极板(850×550mm）
3、控制系统：         触摸屏+PLC控制
4、真空测定系统：  皮拉尼真空计
5、气体计量系统：  MFC
6、气体路数：         2-5路进气、1路放空
7、等离子发生器：  10-40KW等离子体发生源，40KHz（可选13.56MHz）
8、工作气体：         2-5路工作气体可选：Ar2、N2、H2、CF4、O2

特 点：垂直电极结构，高精度，快响应，良好的操控性和兼容性，完善的功能和专业的技术支持。
             ※ 高性能等离子发生器，激发更为稳定之等离子体；
           ※ 特殊电极结构，更适合宽幅双面材料进行等离子体表面处理；
           ※ 采用中通水冷电极，真正实现过程温度控制，均衡均一；
           ※ 具备上下料车，取代人工上下材料，更加方便快捷；
           ※ 变频节能，通过真空度变化自动调节变频器频率，进而调节真空泵转速维持真空度。

等离子表面处理原理： 清洗、 活化、 蚀刻、 涂覆。 

真空等离子设备结构及工作原理， 常用工艺参数。

应 用 ：适用于印制线路板行业，半导体IC领域，塑胶高分子材料领域，汽车电子行业，航空工业等；
          1、印制线路板行业：高频板表面活化，多层板、软板、软硬结合板表面清洁、去钻污；软板补强前活化；
          2、半导体IC领域：COB、COG、COF、ACF工艺，用于打线、焊接前的清洗；
          3、塑胶高分子材料领域：硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。