1、机台处理宽幅：  VPL-RTR800L，100mm～800mm（可定制）
2、真空腔室规格：  VPL-RTR800L，1200L（可定制）
3、控制系统：         触摸屏+PLC控制
4、真空测定系统：  皮拉尼真空计
5、气体计量系统：  MFC
6、气体路数：         2-5路进气、1路放空
7、等离子发生器：  10-40KW等离子体发生源，40KHz（可选13.56MHz）
8、工作气体：         2-5路工作气体可选：Ar2、N2、H2、CF4、O2

应 用：主要用于PE薄膜、PET薄膜，聚酯薄膜，PI聚酰亚胺薄膜、FPC柔性线路板等柔性卷绕材料的等离子体表面清洁、活化、蚀刻；

特 点：可处理100～800mm宽幅之材料，结构可靠，配备张力和纠偏控制系统，上下料方便，可用于清洗、活化和刻蚀工艺。
             ※ 真空室内置张力控制系统，有效保护材料涨缩，使处理更加平稳；
           ※ 高性能等离子发生器，激发更为稳定之等离子体；
           ※ 特殊电极结构，更适合宽幅双面材料进行等离子体表面处理；
           ※ 采用中通水冷电极，真正实现过程温度控制，均衡均一；
           ※ 独特的卷曲设计，有效解决了卷式材料穿料问题，牵引材料更加便捷；
           ※ 变频节能，通过真空制自动调节变频器频率，自动调节真空泵转速维持真空度；

等离子表面处理原理： 清洗、 活化、 蚀刻、 涂覆。 

真空等离子设备结构及工作原理， 常用工艺参数。